Electronic structure of silicon oxynitride films grown by plasma-enhanced chemical vapor deposition for memristor application

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标题	Electronic structure of silicon oxynitride films grown by plasma-enhanced chemical vapor deposition for memristor application 相关领域等离子体增强化学气相沉积氮化硅材料科学硅无定形固体电阻随机存取存储器化学气相沉积等离子体带隙分析化学（期刊）纳米技术光电子学结晶学化学氮化硅电极物理化学物理量子力学色谱法
网址	https://doi.org/10.1016/j.jnoncrysol.2022.121925
DOI	10.1016/j.jnoncrysol.2022.121925 doi
其它	期刊：Journal of Non-Crystalline Solids 作者：Timofey V. Perevalov; В. А. Володин; Г. Н. Камаев; Andrei A. Gismatulin; S. G. Cherkova; et al 出版日期：2022-10-13
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