| 标题 |
 Direct Photolithography Patterning of Quantum Dot‐Polymer 相关领域
光刻
光掩模
材料科学
量子点
纳米技术
平版印刷术
聚合物
计算光刻
纳米压印光刻
光电子学
制作
多重图案
抵抗
复合材料
病理
替代医学
医学
图层（电子）
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Advanced Functional Materials 作者：Weishu Guo; Jun Chen; Teng Ma; Ziyi Chen; Mulin Li; et al 出版日期：2023-11-23 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
Criminology34
MchemG
yyds
精明浩然
wwy
tuanheqi
秀丽小猫咪
Owen
大龙哥886
兼听则明
嘿嘿
皮皮
andrele
qing
辉辉
探索未知的世界
Alex
优美紫槐
汉堡包
反恐分子
小小
子车茗
舒心凡
无极微光
皖公网安备34019202002308
