标题 |
Galvanodynamic probing of tribologically assisted material removal under chemical control: A cobalt/copper case study for application in chemical mechanical planarization
化学控制下摩擦学辅助材料去除的电流动力学探测:应用于化学机械平坦化的钴/铜实例研究
相关领域
化学机械平面化
腐蚀
消耗品
材料科学
摩擦腐蚀
钴
铜
冶金
合金
电化学
抛光
化学
电极
物理化学
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DOI | |
其它 |
期刊:Tribology International 作者:Shiqiang Wei; D. Roy 出版日期:2023-01-01 |
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