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 Process study and optimization of ICP etching chemistries for continuous curved-profile transfer of InP microlenses 相关领域
材料科学
蚀刻（微加工）
过程（计算）
光电子学
干法蚀刻
纳米技术
感应耦合等离子体
工艺优化
制作
反应离子刻蚀
传输（计算）
各向同性腐蚀
光学显微镜
原子力显微镜
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| 其它 |
期刊：Materials Science in Semiconductor Processing 作者：Chao Liu; Wen-Juan Wang; Yun-Zhu Wang; H. Qu; Min Zhou; et al 出版日期：2026-01-01 |
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