Mechanisms for plasma cryogenic etching of porous materials

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标题	Mechanisms for plasma cryogenic etching of porous materials 多孔材料的等离子体低温刻蚀机理相关领域微电子蚀刻（微加工）等离子体刻蚀材料科学等离子体多孔性干法蚀刻多孔介质等离子体处理反应离子刻蚀复合材料纳米技术光电子学图层（电子）量子力学物理
网址	https://doi.org/10.1063/1.4999439
DOI	10.1063/1.4999439 doi
其它	期刊：Applied Physics Letters 作者：Quan‐Zhi Zhang; Stefan Tinck; Jean‐François de Marneffe; Liping Zhang; Annemie Bogaerts 出版日期：2017-10-23
求助人	jjj 在 2025-04-19 22:05:10 发布自天津，悬赏 10 积分
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