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标题
High-performance tin oxide field-effect transistors deposited by thermal atomic layer deposition
热原子层沉积法沉积高性能氧化锡场效应晶体管
相关领域
材料科学 退火（玻璃） 原子层沉积 光电子学 锡 阈值电压 形成气体 分析化学（期刊） 氧化物 晶体管 纳米技术 薄膜 电压 复合材料 冶金 电气工程 化学 工程类 色谱法
网址
https://doi.org/10.1016/j.mtcomm.2023.107064
DOI
10.1016/j.mtcomm.2023.107064 doi
其它 期刊：Materials today communications
作者：Chanhyeok Park; Seon-Chang Kim; Dawon Lee; Roy B. Chung
出版日期：2023-09-09
求助人
dalian 在 2025-06-26 18:59:37 发布自辽宁，悬赏 10 积分
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