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标题
Enhancement Mode GaN Tri-Gate MISHEMT With Fluorinated HfO₂ as Charge Trapping Layer in Hybrid Ferroelectric Gate Stack
网址
http://xplorestaging.ieee.org/ielx8/6245494/10834603/1131796...
DOI
10.1109/jeds.2025.3649208 doi
其它 期刊：IEEE Journal of the Electron Devices Society
作者：Rahul Rai; Khanh Quoc Nguyen; Hung Duy Tran; Viet Quoc Ho; You Chen Weng; et al
出版日期：2025-12-30
求助人
conlensce 在 2026-07-17 15:08:33 发布自上海，悬赏 10 积分
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