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AN INFLUENCE OF PLASMA TREATMENT ON STRUCTURE PROPERTIES OF THIN SiC FILMS ON Si 相关领域
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期刊:High Temperature Material Processes An International Quarterly of High-Technology Plasma Processes 作者:K. Kh. Nussupov; Н. Б. Бейсенханов; K.A. Mit’; Д.М. Мухамедшина; Z. M. Amreyeva; et al 出版日期:2010-01-01 |
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