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![]() 多孔硅被动化学刻蚀及其对薄层和多层制备影响的原位和实时光学研究
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期刊:Journal of Applied Physics 作者:Héctor F. Lara-Alfaro; Jacob Barranco-Cisneros; Ángel A. Torres-Rosales; O. Del Pozo-Zamudio; J. Solís-Macías; et al 出版日期:2023-08-28 |
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Yiqing
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2025-08-29 10:13:48 发布,悬赏 10 积分
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