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 Impact of high-power impulse magnetron sputtering pulse width on the nucleation, crystallization, microstructure, and ferroelectric properties of hafnium oxide thin films 相关领域
高功率脉冲磁控溅射
材料科学
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铁电性
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分析化学（期刊）
薄膜
溅射
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化学
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期刊：Journal of vacuum science & technology 作者：Samantha T. Jaszewski; Shelby S. Fields; Ching‐Chang Chung; Jacob L. Jones; Keithen G. Orson; et al 出版日期：2024-02-01 |
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