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标题
Development and Application of Microelectronic Photoresist
微电子光刻胶的研制与应用
相关领域
光刻胶 抵抗 平版印刷术 材料科学 光刻 微电子 纳米技术 极紫外光刻 光电子学 图层(电子)
网址
DOI
10.7536/pc140729 doi
其它 期刊:Huaxue jinzhan
作者:Wei Wei; Jingcheng Liu; Hu Li; Qidao Mu; Xiaoya Liu
出版日期:2014-11-15
求助人
南陌故人 在 2024-07-26 14:25:49 发布自天津,悬赏 10 积分
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