Plasma-enhanced atomic layer deposited indium oxide film using a novel dimethylbutylamino-trimethylindium precursor for thin film transistors

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标题	Plasma-enhanced atomic layer deposited indium oxide film using a novel dimethylbutylamino-trimethylindium precursor for thin film transistors
网址	https://pubs.aip.org/avs/jva/article-pdf/doi/10.1116/6.00008...
DOI	10.1116/6.0000842 doi
其它	期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films 作者：Su-Hwan Choi; Hyun-Jun Jeong; TaeHyun Hong; Yong Hwan Na; Chi Kwon Park; et al 出版日期：2021-03-17
求助人	sunrise 在 2026-11-04 20:05:01 发布自四川，悬赏 10 积分
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