Kinetics model for thermal selective etching of Si1−xGex in F2/Ar

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标题	Kinetics model for thermal selective etching of Si1−xGex in F2/Ar
网址	https://doi.org/10.1116/6.0004634
DOI	10.1116/6.0004634 doi
其它	期刊：Journal of vacuum science & technology 作者：Yi Chen; Daniel J. Cho; John Hoang; Nicholas D. Altieri; Ji Zhu; et al 出版日期：2025-06-20
求助人	123 在 2026-10-09 19:34:00 发布自北京，悬赏 10 积分
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