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标题
Ion energy control in an industrial ICP etch chamber without bias power usage
无需偏置电源的工业ICP蚀刻室中的离子能量控制
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网址
https://doi.org/10.1116/6.0001477
AI链接 scitation.orgdoi.org
DOI
10.1116/6.0001477 doi
其它 期刊：Journal of vacuum science and technology
作者：Michael Klick; Hans-Peter Maucher
出版日期：2021-12-30
求助人
lilli 在 2025-10-27 09:33:39 发布自北京，悬赏 10 积分
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