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 Comparison of Germanium and Silicon Dry Etching by Using Inductively Coupled BCl3 Plasma 相关领域
感应耦合等离子体
锗
材料科学
干法蚀刻
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等离子体
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期刊：Journal of the Korean Physical Society 作者：Taek Sung Kim; H. Y. Yang; Sang-Soo Choi; T. S. Jeong; Sang Yull Kang; et al 出版日期：2010-01-15 |
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