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标题
Influence of an Oxide Interlayer Dielectric (ILD) Capping Layeron the Thermal Stability of Ni Germanide for Nanoscale Ge MOSFETs
相关领域
材料科学 纳米尺度 热稳定性 氧化物 光电子学 电介质 纳米技术 冶金 化学工程 工程类
网址
DOI
10.3938/jkps.55.1026 doi
其它 期刊:Journal of the Korean Physical Society
作者:Yingying Zhang; In‐Shik Han; Shiguang Li; Soon-Yen Jung; Kee-Young Park; et al
出版日期:2009-09-15
求助人
pahnky 在 2025-10-13 19:21:23 发布自上海,悬赏 10 积分
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