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标题
Improved Electrical Characteristics of Ge FinFET CMOS by Plasma-Enhanced Oxidation and Partial Nitridation with Supercritical Fluid Treatment
等离子体增强氧化和超临界流体部分氮化改善Ge FinFET CMOS的电学特性
相关领域
超临界流体 等离子体 材料科学 CMOS芯片 锗 MOSFET 硅 光电子学 化学工程 晶体管 电气工程 化学 电压 物理 工程类 有机化学 量子力学
网址
https://doi.org/10.1109/led.2024.3479200
DOI
10.1109/led.2024.3479200 doi
其它 期刊：IEEE Electron Device Letters
作者：Dun‐Bao Ruan; Kuei‐Shu Chang‐Liao; Kai‐Chun Yang; Kai‐Jhih Gan
出版日期：2024-01-01
求助人
dr.du 在 2025-08-04 11:43:51 发布，悬赏 10 积分
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