Lithographic characterization of the flare in the Berkeley 0.3 numerical aperture extreme ultraviolet microfield optic

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标题	Lithographic characterization of the flare in the Berkeley 0.3 numerical aperture extreme ultraviolet microfield optic 相关领域极紫外光刻火炬极端紫外线平版印刷术计量学光学物理表征（材料科学）天体物理学激光器
网址	https://doi.org/10.1116/1.2194946
DOI	10.1116/1.2194946 doi
其它	期刊：Journal of Vacuum Science & Technology B Microelectronics and Nanometer Structures Processing Measurement and Phenomena 作者：Jason P. Cain; Patrick Naulleau; Eric M. Gullikson; Costas J. Spanos 出版日期：2006-04-24
求助人	Heidi 在 2025-11-03 11:09:21 发布自上海，悬赏 10 积分
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