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 Chemical vapor deposition of HfO2 films on Si(100) Si（100）表面HfO2薄膜的化学气相沉积
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期刊：Journal of Vacuum Science and Technology 作者：Safak Sayan; S. Aravamudhan; B. W. Busch; W. H. Schulte; F. Cosandey; et al 出版日期：2002-03-06 |
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