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Modeling of inductively coupled plasma SF6/O2/Ar plasma discharge: Effect of O2 on the plasma kinetic properties
SF6/O2/Ar电感耦合等离子体放电的模拟：O2对等离子体动力学特性的影响
网址
https://pubs.aip.org/avs/jva/article-pdf/doi/10.1116/1.48536...
DOI
10.1116/1.4853675 doi
其它 期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films
作者：Amand Pateau; Ahmed Rhallabi; Marie-Claude Fernandez; Mohamed Boufnichel; Fabrice Roqueta
出版日期：2013-12-27
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Gavin 在 2025-02-17 10:24:45 发布自福建，悬赏 10 积分
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