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 Reaction kinetics and transport phenomena underlying the low-pressure metalorganic chemical vapor deposition of GaAs 相关领域
金属有机气相外延
砷化氢
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期刊：Journal of Crystal Growth 作者：N.K. Ingle; Constantinos Theodoropoulos; T. J. Mountziaris; Ronald M. Wexler; F. T. Smith 出版日期：1996-10-01 |
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