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 Radical etching with an aperture plate: correlating F atom density and highly selective etching of poly-Si and Si 3 N 4 over SiO 2 in CF 4 /O 2 /He plasma 相关领域
蚀刻（微加工）
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期刊：Plasma Sources Science and Technology 作者：Yong Cao; Yuan Gao; Chaowei Yuan; Lijun Sang; Bowen Liu; et al 出版日期：2026-05-01 |
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