| 标题 |
Inorganic polymer resists for EUVL |
| 网址 | |
| DOI |
10.1117/12.600172
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| 其它 |
期刊:SPIE Advanced Lithography 作者:J. Bravo-Vasquez; Young‐Je Kwark; C. Ober; H. Cao; H. Deng 出版日期:2005-05-04 |
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(2025-6-4)