Physical Principles of in situ Sidewall Profile Control in Cryogenic Plasma Etching of HAR Silicon Microstructures

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标题	Physical Principles of in situ Sidewall Profile Control in Cryogenic Plasma Etching of HAR Silicon Microstructures
网址	http://dx.doi.org/10.1134/s1063739725601377
DOI	10.1134/s1063739725601377 doi
其它	期刊：Russian Microelectronics 作者：K. Rudenko; A. Miakonkikh; V. Kuzmenko; K. Fetisenkova; A. Melnikov 出版日期：2025-12-01
求助人	cyyan 在 2026-09-29 19:21:22 发布自上海，悬赏 10 积分
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