| 标题 |
 Effects of parameters on the performance of amorphous IGZO thin films prepared by RF magnetron sputtering 参数对射频磁控溅射制备非晶IGZO薄膜性能的影响
相关领域
溅射
材料科学
无定形固体
溅射沉积
高功率脉冲磁控溅射
光电子学
退火（玻璃）
薄膜
表面粗糙度
透射率
复合材料
纳米技术
化学
有机化学
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Optoelectronics Letters 作者：Jian-wen Niu; Ruixin Ma; Yuanyuan Wang; Shina Li; Shiyao Cheng; et al 出版日期：2014-08-29 |
| 求助人 | |
| 下载 | 求助已完成，仅限求助人下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
浮游
freyaaaaa
null
星星亮
VDC
eric888
无极微光
jyy
且慢
Owen
ggp
Albert
活力的歌曲
czcmh
GingerF
彼得
早睡早起
GPTea
evz
loitinsuen
迷途小书童
淡淡土豆
香蕉觅云
herococa
皖公网安备34019202002308
