Hysteresis Improvement of Low-Temperature Polycrystalline Silicon Thin-Film Transistors by N2O Plasma Surface Treatment

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标题	Hysteresis Improvement of Low-Temperature Polycrystalline Silicon Thin-Film Transistors by N2O Plasma Surface Treatment
网址	https://link.springer.com/content/pdf/10.1007/s42835-025-021...
DOI	10.1007/s42835-025-02170-0 doi
其它	期刊：Journal of Electrical Engineering & Technology 作者：Dae Woong Kim; Kook Chul Moon; Hwarim Im; Yong-Sang Kim 出版日期：2025-03-06
求助人	霜幕在 2026-01-28 19:33:17 发布自湖北，悬赏 10 积分
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