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标题
Hysteresis Improvement of Low-Temperature Polycrystalline Silicon Thin-Film Transistors by N2O Plasma Surface Treatment
网址
https://link.springer.com/content/pdf/10.1007/s42835-025-021...
DOI
10.1007/s42835-025-02170-0 doi
其它 期刊：Journal of Electrical Engineering & Technology
作者：Dae Woong Kim; Kook Chul Moon; Hwarim Im; Yong-Sang Kim
出版日期：2025-03-06
求助人
霜幕 在 2026-01-28 19:33:17 发布自湖北，悬赏 10 积分
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