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 Enhancing plasma uniformity in SiH4/NH3 capacitively coupled plasmas via dielectric structure adjustment positioning adjacent to the power electrode 通过邻近功率电极的电介质结构调整定位提高SiH4/NH3电容耦合等离子体的等离子体均匀性
相关领域
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期刊：Journal of vacuum science and technology 作者：Sen Wang; Quan‐Zhi Zhang; Maksudbek Yusupov; You‐Nian Wang 出版日期：2025-11-04 |
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