Inductively coupled plasma reactive-ion etching of β-Ga2O3: Comprehensive investigation of plasma chemistry and temperature

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标题	Inductively coupled plasma reactive-ion etching of β-Ga2O3: Comprehensive investigation of plasma chemistry and temperature
网址	https://pubs.aip.org/avs/jva/article-pdf/doi/10.1116/1.49830...
DOI	10.1116/1.4983078 doi
其它	期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films 作者：Amit P. Shah; Arnab Bhattacharya 出版日期：2017-05-08
求助人	朴素的冥幽在 2026-10-14 17:57:37 发布自陕西，悬赏 10 积分
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