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 Doping Strategy Enabling CsPbBrI 2 Perovskite Quantum Dot‐Photoresist Compatible Blending with High Stability for Ultra‐Simplified Photolithography 用于超简化光刻的高稳定性CsPbBrI 2钙钛矿量子点-光刻胶兼容共混的掺杂策略
相关领域
光刻
光致发光
材料科学
光刻胶
量子点
光电子学
热稳定性
发光
兴奋剂
量子产额
纳米技术
平版印刷术
钙钛矿（结构）
荧光粉
抵抗
薄膜
量子效率
自组装
激发态
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| 其它 |
期刊：Small 作者：Bin Wang; Mulin Li; Junyi You; Fengyi Zhang; Rongqiu Lv; et al 出版日期：2025-11-25 |
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(2025-6-4)
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