| 标题 |
Investigate on material removal of 3C-SiC crystals in nano-polishing via molecular dynamics 相关领域
抛光
材料科学
纳米-
机械加工
分子动力学
残余应力
工作(物理)
相(物质)
化学机械平面化
压力(语言学)
机制(生物学)
Crystal(编程语言)
复合材料
纳米技术
机械工程
冶金
计算机科学
化学
计算化学
哲学
有机化学
工程类
认识论
程序设计语言
语言学
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:Journal of Manufacturing Processes 作者:Huan Liu; Pengyue Zhao; Dongxu Wu; Duo Li; Shunbo Wang; et al 出版日期:2024-04-30 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
|
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|