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Atomic layer deposition of metal and metal oxides: Mechanisms, challenges, and future prospects 金属和金属氧化物的原子层沉积:机理、挑战和未来展望
相关领域
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材料科学
金属
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期刊:Journal of Alloys and Compounds 作者:Vu Hung Anh Tran; S. Cathrin Lims; Nadia Anwar; Muqarrab Ahmed; Nazia Iram; et al 出版日期:2025-09-22 |
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