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Atomic layer deposition of metal and metal oxides: Mechanisms, challenges, and future prospects

原子层沉积 材料科学 微电子 金属 商业化 沉积（地质） 图层（电子） 表征（材料科学） 催化作用 表面改性 过程（计算） 氧化物 纳米技术 薄膜 储能 可扩展性 工程物理 计算机科学 过程开发 钛 化学 多相催化
作者
Vu Hung Anh Tran,S. Cathrin Lims,Nadia Anwar,Muqarrab Ahmed,Nazia Iram,Vinoth Kumar Ponnusamy,Phuong V. Pham
出处
期刊：Journal of Alloys and Compounds [Elsevier BV]
日期：2025-09-22 卷期号：1041: 183864-183864 被引量：10
标识
DOI：10.1016/j.jallcom.2025.183864
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