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标题
Effect of N2 flow rate on the crystallization and electrical performance of AlN films prepared by medium frequency magnetron sputtering
N2流量对中频磁控溅射AlN薄膜晶化和电学性能的影响
相关领域
材料科学 欧姆接触 溅射沉积 溅射 光电子学 绝缘体（电） 氮化物 泄漏（经济） 结晶 电场 电流密度 薄膜 复合材料 纳米技术 化学工程 宏观经济学 量子力学 物理 经济 图层（电子） 工程类
网址
https://doi.org/10.1016/j.tsf.2023.139999
DOI
10.1016/j.tsf.2023.139999 doi
其它 期刊：Thin Solid Films
作者：Juan Xi; Dayu Zhou; Nana Sun; Weiqi Zhang
出版日期：2023-08-06
求助人
Grace 在 2025-12-06 11:05:30 发布自辽宁，悬赏 10 积分
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