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 H2O-based atomic layer deposition mechanism of aluminum oxide using trimethylaluminum 相关领域
原子层沉积
图层（电子）
氧化铝
沉积（地质）
铝
机制（生物学）
化学
氧化物
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地质学
沉积物
古生物学
量子力学
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期刊：Surface Science 作者：Yingying Wang; Jiayi Guo; Chenqi Bai; Lina Xu; Hong‐Ping Xiao; et al 出版日期：2024-08-22 |
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