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标题
Effect of post-deposition annealing on the interfacial chemical bonding states and band alignment of atomic layer deposited neodymium oxide on silicon
沉积后退火对硅原子层沉积氧化钕界面化学键态和能带排列的影响
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网址
http://dx.doi.org/10.1088/2053-1591/1/4/045005
DOI
10.1088/2053-1591/1/4/045005 doi
求助人
可耐的靖 在 2025-12-15 15:25:45 发布自中国，悬赏 10 积分
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