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 Integration of three-beam laser interference lithography and metal assisted chemical etching for enhanced electrical and antireflection characteristics in Si micro/nano structures 三光束激光干涉光刻和金属辅助化学蚀刻的集成增强硅微/纳米结构的电学和抗反射特性
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期刊：Mechanics of Advanced Materials and Structures 作者：Sadaf Saeed; Ali Zia; Umema Shakoor; K. Arshad; Sana Tariq; et al 出版日期：2025-03-06 |
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