Engineering Valley Polarization of Monolayer WS2: A Physical Doping Approach

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标题	Engineering Valley Polarization of Monolayer WS2: A Physical Doping Approach 单层WS2的工程谷极化：一种物理掺杂方法相关领域极化（电化学）二硫化钨纳米技术
网址	https://doi.org/10.1002/smll.201805503
DOI	10.1002/smll.201805503 doi
其它	期刊：Small 作者：Shun Feng; Chunxiao Cong; Satoru Konabe; Jing Zhang; Jingzhi Shang; et al 出版日期：2019-02-21
求助人	王筱宁在 2025-05-21 20:26:46 发布自北京，悬赏 10 积分
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