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![]() 特勒的氧化还原循环:常见有机硅和SiH 4中Si-H键的选择性和多重激活
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期刊:Chemistry - A European Journal 作者:Martin Hejda; Lukáš Doležal; Milan Erben; Emanuel Hupf; Aleš Růžička; et al 出版日期:2025-06-30 |
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