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 Analysis of Degradation Phenomenon Caused by Self-Heating in Low-Temperature-Processed Polycrystalline Silicon Thin Film Transistors 低温加工多晶硅薄膜晶体管中自发热引起的退化现象分析
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期刊：Japanese Journal of Applied Physics 作者：Satoshi Inoue; Hiroyuki Ohshima; Tatsuya Shimoda 出版日期：2002-11-15 |
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