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  <I>In-Situ</I> Ellipsometric Analysis of the Formation Process of Ta<SUB>2</SUB>O<SUB>5</SUB> Thin Films in MOCVD 相关领域
钽
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期刊：Journal of the Japan Institute of Metals and Materials 作者：Choonho An; Katsuhisa Sugimoto 出版日期：1991-01-01 |
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