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Surface topography and character of γ-aminopropyltriethoxysilane and dodecyltrimethoxysilane films adsorbed on the silicon dioxide substrate via vapour phase deposition 气相沉积γ-氨基丙基三乙氧基硅烷和十二烷基三甲氧基硅烷薄膜的表面形貌和表征
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期刊:Journal of Physics D Applied Physics 作者:Chujiang Cai; Zhigang Shen; Yushan Xing; Shu‐Lin Ma 出版日期:2006-11-03 |
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