| 标题 |
Mass-analyzed CFx+ (x=1,2,3) ion beam study on selectivity of SiO2-to-SiN etching and a-C:F film deposition |
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:Journal of Applied Physics 作者:Ken-ichi Yanai; Kazuhiro Karahashi; Kenji Ishikawa; Moritaka Nakamura 出版日期:2005-02-09 |
| 求助人 | |
| 下载 | 求助已完成,仅限求助人下载。 |
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)