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 Investigation of the annealing temperature for few-layer MoS2 and ion-beam induced athermal annealing/purification behaviour by in-situ XRD 用原位XRD研究少层MoS2的退火温度和离子束诱导的无热退火/净化行为
相关领域
结晶度
退火（玻璃）
材料科学
离子
辐照
通量
离子束
分析化学（期刊）
原位
化学工程
复合材料
化学
有机化学
核物理学
工程类
物理
色谱法
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期刊：Applied Surface Science 作者：Mayur Khan; Sanjay Kumar Kedia; Anshul Mishra; D.K. Avasthi; Ambuj Tripathi 出版日期：2023-12-01 |
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