标题 |
Metal-assisted chemical etching in HF/H2O2 produces porous silicon
HF/H2O2金属辅助化学刻蚀制备多孔硅
相关领域
蚀刻(微加工)
材料科学
多孔硅
金属
硅
兴奋剂
各向同性腐蚀
化学工程
纳米技术
分析化学(期刊)
光电子学
冶金
化学
色谱法
工程类
图层(电子)
|
网址 | |
DOI | |
其它 |
期刊:Applied Physics Letters 作者:X. Li; Paul W. Bohn 出版日期:2000-10-16 |
求助人 | |
下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|