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 Highly efficient elimination performance of graphene/supramolecular porphyrin-based photocatalysis-self-Fenton system towards sulfonamide antibiotics, resistant bacteria and resistance genes 石墨烯/超分子卟啉光催化——自Fenton体系对磺胺类抗生素、耐药菌和耐药基因的高效消除性能
相关领域
磺胺
卟啉
光催化
超分子化学
石墨烯
细菌
抗生素
化学
组合化学
催化作用
有机化学
材料科学
纳米技术
生物化学
生物
分子
遗传学
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| 其它 |
期刊：Chemical engineering journal 作者：Xiaoyan Yu; Zhouping Wang; Yang Lou; Jiawei Zhang; Chengsi Pan; et al 出版日期：2024-03-01 |
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