Highly selective and vertical etch of silicon dioxide using ruthenium films as an etch mask

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标题	Highly selective and vertical etch of silicon dioxide using ruthenium films as an etch mask
网址	https://pubs.aip.org/avs/jva/article-pdf/doi/10.1116/6.00010...
DOI	10.1116/6.0001030 doi
其它	期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films 作者：William J. Mitchell; Brian J. Thibeault; Demis D. John; Thomas E. Reynolds 出版日期：2021-05-27
求助人	陶醉的筮在 2026-01-27 23:11:28 发布自陕西，悬赏 10 积分
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