Chemical Stability of Atomic Layer Deposited (ALD) Alumina Thin Films in Aqueous Solutions

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标题	Chemical Stability of Atomic Layer Deposited (ALD) Alumina Thin Films in Aqueous Solutions 原子层沉积（ALD）氧化铝薄膜在水溶液中的化学稳定性相关领域原子层沉积溶解水溶液薄膜无定形固体化学工程材料科学无机化学矿物学化学纳米技术结晶学有机化学工程类
网址	https://doi.org/10.1149/ma2022-02311123mtgabs
DOI	10.1149/ma2022-02311123mtgabs doi
其它	期刊：Meeting abstracts/Meeting abstracts (Electrochemical Society. CD-ROM) 作者：Selma Fairach; Simon N. Willis; Mark D. Losego 出版日期：2022-10-09
求助人	宇帕在 2024-07-11 10:57:04 发布自吉林，悬赏 10 积分
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