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Effect of the chamber wall on fluorocarbon-assisted atomic layer etching of SiO2 using cyclic Ar/C4F8 plasma |
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期刊:Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films 作者:Masatoshi Kawakami; Dominik Metzler; Chen Li; Gottlieb S. Oehrlein 出版日期:2016-05-24 |
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