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  Modification of Diazoquinone-Novolac Photoresist Films by the Implantation of Antimony Ions 锑离子注入对重氮醌-酚醛光刻胶薄膜的改性
相关领域
光刻胶
材料科学
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期刊：Russian Microelectronics 作者：С. Д. Бринкевич; Д. И. Бринкевич; В. С. Просолович 出版日期：2021-01-01 |
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