Oxidant-driven growth and crystallization of MoOx in H2-gas-free thermal atomic layer deposition using a high-volatility liquid Mo precursor

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标题	Oxidant-driven growth and crystallization of MoOx in H2-gas-free thermal atomic layer deposition using a high-volatility liquid Mo precursor
网址	https://doi.org/10.1116/6.0005336
DOI	10.1116/6.0005336 doi
其它	期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A 作者：Nu Ri Kim; Yeo-Bin Youn; Se Won Yoon; Jae Woo Baek; Kyong Jun Sun; et al 出版日期：2026
求助人	chenyangzhou521 在 2026-05-14 17:26:32 发布自福建，悬赏 10 积分
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